3 dýuýmlyk ýokary arassalykly (goşulmadyk) kremniý karbid plitalary ýarym izolýasiýaly silikon substratlar (HPSl)

Gysgaça düşündiriş:

3 dýuýmlyk Ýokary Arassalyk Ýarym Izolýasiýaly (HPSI) Kremniý Karbidi (SiC) plastinkasy ýokary kuwwatly, ýokary ýygylykly we optoelektroniki ulanylyşlar üçin optimizirlenen ýokary derejeli substratdyr. Deňeşdirilmedik, ýokary arassalykly 4H-SiC materialyndan öndürilen bu plastinkalar ajaýyp ýylylyk geçirijiligini, giň zolak aralygyny we ajaýyp ýarym izolýasiýa häsiýetlerini görkezýär, bu bolsa olary öňdebaryjy enjam işläp düzmek üçin zerur edýär. Ýokary gurluş bitewüligi we ýüz hili bilen HPSI SiC substratlary elektrik elektronikasynda, telekommunikasiýada we awiakosmos senagatynda täze nesil tehnologiýalaryň esasy bolup hyzmat edýär we dürli ugurlarda innowasiýalary goldaýar.


Aýratynlyklar

Emläkler

1. Fiziki we gurluş aýratynlyklary
●Material görnüşi: Ýokary arassalyk (goşulmadyk) kremniý karbidi (SiC)
●Diametri: 3 dýuým (76.2 mm)
●Galyňlygy: 0.33-0.5 mm, ulanylyş talaplaryna laýyklykda sazlanyp bilner.
●Kristal gurluşy: Ýokary elektron hereketliligi we termal durnuklylygy bilen tanalýan altyburçluk torly 4H-SiC politipi.
●Ugurlanma:
oStandart: [0001] (C-tekizlik), dürli ulanyşlar üçin amatly.
oSaýlamaga görä: Enjam gatlaklarynyň epitaksial ösüşini güýçlendirmek üçin okdan daşary (4° ýa-da 8° egiliş).
●Tekizlik: Umumy galyňlygyň üýtgemegi (TTV) ●Ýüziň hili:
oPes kemçilikli dykyzlyga çenli jylaňlandyrylan (<10/sm² mikrotruba dykyzlygy). 2. Elektrik häsiýetleri ●Garşylyk: >109^99 Ω·sm, maksatly garyndylary aýyrmak arkaly saklanýar.
●Dielektrik güýji: Ýokary kuwwatly ulanyşlar üçin ideal bolan minimal dielektrik ýitgileri bilen ýokary woltly çydamlylyk.
●Ýylylyk geçirijiligi: 3.5-4.9 W/sm·K, ýokary öndürijilikli enjamlarda ýylylygyň netijeli ýaýramagyna mümkinçilik berýär.

3. Termal we mehaniki häsiýetler
●Giň zolak aralygy: 3.26 eV, ýokary woltly, ýokary temperaturaly we ýokary radiasiýa şertlerinde işlemegi goldaýar.
●Gatylygy: Mohs şkalasy 9, gaýtadan işlemek wagtynda mehaniki aşynmalara garşy berkligi üpjün edýär.
●Termal giňelme koeffisiýenti: 4.2×10−6/K4.2 \times 10^{-6}/\text{K}4.2×10−6/K, temperatura üýtgemeleri astynda ölçeg durnuklylygyny üpjün edýär.

Parametr

Önümçilik derejesi

Ylmy dereje

Ýalan derejeli

Birlik

Dereje Önümçilik derejesi Ylmy dereje Ýalan derejeli  
Diametr 76.2 ± 0.5 76.2 ± 0.5 76.2 ± 0.5 mm
Galyňlygy 500 ± 25 500 ± 25 500 ± 25 µm
Wafer ugry Ok boýunça: <0001> ± 0.5° Ok boýunça: <0001> ± 2.0° Ok boýunça: <0001> ± 2.0° dereje
Mikrotrubanyň dykyzlygy (MPD) ≤ 1 ≤ 5 ≤ 10 sm−2^-2−2
Elektrik garşylygy ≥ 1E10 ≥ 1E5 ≥ 1E5 Ω·sm
Dopant Dopingsiz Dopingsiz Dopingsiz  
Esasy Tekizlik Ugury {1-100} ± 5.0° {1-100} ± 5.0° {1-100} ± 5.0° dereje
Esasy tekiz uzynlyk 32.5 ± 3.0 32.5 ± 3.0 32.5 ± 3.0 mm
Ikinji derejeli tekiz uzynlyk 18.0 ± 2.0 18.0 ± 2.0 18.0 ± 2.0 mm
Ikinji derejeli tekizlik ugry Esasy tekizlikden 90° CW ± 5.0° Esasy tekizlikden 90° CW ± 5.0° Esasy tekizlikden 90° CW ± 5.0° dereje
Gyra çykarylyşy 3 3 3 mm
LTV/TTV/Bow/Warp 3 / 10 / ±30 / 40 3 / 10 / ±30 / 40 5 / 15 / ±40 / 45 µm
Ýüziň gödekligi Si-ýüz: CMP, C-ýüz: Jyllalanan Si-ýüz: CMP, C-ýüz: Jyllalanan Si-ýüz: CMP, C-ýüz: Jyllalanan  
Çatlaklar (Ýokary intensiwli ýagtylyk) Hiç hili Hiç hili Hiç hili  
Altyburçluk plitalar (Ýokary intensiwli çyra) Hiç hili Hiç hili Umumy meýdan 10% %
Köp görnüşli meýdanlar (Ýokary intensiwli ýagtylyk) Umumy meýdan 5% Umumy meýdan 20% Umumy meýdan 30% %
Çyzgylar (Ýokary intensiwli ýagtylyk) ≤ 5 çyzyk, umumy uzynlyk ≤ 150 ≤ 10 çyzyk, umumy uzynlyk ≤ 200 ≤ 10 çyzyk, umumy uzynlyk ≤ 200 mm
Gyralary gyralamak Ýok ≥ 0.5 mm ini/çuňlugy 2 rugsat berilýär ≤ 1 mm giňlik/çuňluk 5 rugsat berilýär ≤ 5 mm giňlik/çuňluk mm
Ýerüsti hapalanma Hiç hili Hiç hili Hiç hili  

Programmalar

1. Güýçli elektronika
HPSI SiC substratlarynyň giň zolak aralygy we ýokary ýylylyk geçirijiligi olary aşakdaky ýaly ekstremal şertlerde işleýän güýç enjamlary üçin ideal edýär:
●Ýokary woltly enjamlar: Tok güýjüni netijeli öwürmek üçin MOSFET-ler, IGBT-ler we Şottki päsgelçilik diodlary (SBD) goşulýar.
●Gaýtadan dikeldilýän energiýa ulgamlary: Gün energiýasyny inwertorlar we ýel turbinalarynyň dolandyryjylary ýaly.
●Elektrik ulaglary (EU): Netijeliligi ýokarlandyrmak we ölçegleri kiçeltmek üçin inwertorlarda, zarýad berijilerde we güýç geçiriji ulgamlarynda ulanylýar.

2. RF we mikrotolkunly peçleriň ulanylyşy
HPSI plastinkalarynyň ýokary garşylygy we pes dielektrik ýitgileri radioýygylyk (RF) we mikrotolkun ulgamlary üçin, şol sanda aşakdakylar üçin möhümdir:
●Telekommunikasiýa infrastrukturasy: 5G ulgamlary we sputnik aragatnaşygy üçin baza stansiýalary.
●Aerokosmos we Goranmak: Radar ulgamlary, fazalaýyn antennalar we awionika bölekleri.

3. Optoelektronika
4H-SiC-niň açyklygy we giň zolak aralygy ony optoelektron enjamlarda, mysal üçin:
●UV fotodetektorlary: Daşky gurşawyň gözegçiligi we lukmançylyk diagnostikasy üçin.
●Ýokary kuwwatly LED-ler: Gaty ýagdaýly yşyklandyryş ulgamlaryny goldaýar.
●Lazer diodlary: Senagat we lukmançylyk maksatlary üçin.

4. Ylmy-barlag we işläp taýýarlamak
HPSI SiC substratlary akademiki we senagat ylmy-barlag we işläp çykaryş laboratoriýalarynda ösen material häsiýetlerini we enjam öndürilişini öwrenmek üçin giňden ulanylýar, şol sanda:
●Epitaksial gatlagyň ösüşi: kemçilikleri azaltmak we gatlagy optimizirlemek boýunça barlaglar.
● Daşaýjylaryň hereketliligini öwrenmek: Ýokary arassa materiallarda elektron we deşik daşamagynyň öwrenilmegi.
●Prototipleme: Täze enjamlaryň we zynjyrlaryň ilkinji işlenip düzülmegi.

Artykmaçlyklar

Ýokary hilli:
Ýokary arassalyk we pes kemçilik dykyzlygy ösen ulanyşlar üçin ygtybarly platforma üpjün edýär.

Termal Durnuklylyk:
Ajaýyp ýylylyk ýaýratma häsiýetleri enjamlaryň ýokary kuwwatlylyk we temperatura şertlerinde netijeli işlemegine mümkinçilik berýär.

Giňişleýin utgaşyklyk:
Elýeterli ugurlar we özelleşdirilen galyňlyk opsiýalary enjamyň dürli talaplaryna laýyk gelmegi üpjün edýär.

Çydamlylyk:
Ajaýyp berklik we gurluş durnuklylygy gaýtadan işlemek we ulanmak wagtynda aşynmagy we deformasiýany azaldýar.

Köpugurlylyk:
Gaýtadan dikeldilýän energiýadan başlap, awiakosmos we telekommunikasiýa çenli dürli pudaklar üçin amatly.

Netije

3 dýuýmlyk ýokary arassalykly ýarym izolýasiýaly kremniý karbid plastinkasy ýokary kuwwatly, ýokary ýygylykly we optoelektron enjamlar üçin substrat tehnologiýasynyň iň ýokary derejesini görkezýär. Onuň ajaýyp termal, elektrik we mehaniki häsiýetleriniň utgaşmasy kyn şertlerde ygtybarly işlemegi üpjün edýär. Güýç elektronikasyndan we RF ulgamlaryndan optoelektronika we ösen ylmy-barlag işlerine çenli, bu HPSI substratlary geljegiň innowasiýalary üçin esas döredýär.
Has giňişleýin maglumat almak ýa-da sargyt bermek üçin biziň bilen habarlaşyň. Tehniki toparymyz siziň zerurlyklaryňyza laýyk gelýän görkezmeleri we özleşdirmek üçin opsiýalary hödürlemek üçin elýeterlidir.

Jikme-jik diagramma

SiC Ýarym izolýasiýa ediji03
SiC Ýarym izolýasiýa ediji02
SiC Ýarym izolýasiýa ediji06
SiC Ýarym izolýasiýa ediji05

  • Öňki:
  • Indiki:

  • Habaryňyzy şu ýere ýazyň we bize iberiň